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介绍一下抛光剂的化学蚀刻参数


抛光剂的化学蚀刻最佳配方和工艺参数为:FeCl3660~850g/L、HCl(36%)8~20mL/L,添加剂10~20g/L,温度45~50℃。在此条件下,蚀刻速度为10~20μm/h,蚀刻时间根据图纹具体深度而定。
化学抛光最佳配方和工艺参数为:硝酸(65%)15~40mL/L,盐酸(36.5%)60~100mL/L,磷酸(85%)20~45mL/L,复合光亮剂1~5g/L,缓蚀剂0.2~2g/L,增稠剂2~20g/L,抛光温度为25~40℃,抛光剂的抛光时间为1~5h。在此条件下,可以获得光亮如镜的抛光面。
电镀铬最佳工艺:铬酐230~270g/L,硫酸2.3~2.7g/L,三价铬<5g/L,阴极电流密度50~60A/dm2,温度55~60℃。铬酐在电镀铬溶液中不仅起到稳定镀液的作用,而且对pH也有一定的缓冲作用,从而使得镀层厚度可持续增加
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