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液体抛光腊要怎样达到粗抛的目的


液体抛光腊为了达到粗抛的目的,要求转盘转速较低,最好不要超过600r/min;抛光时间应当比去掉划痕所需的时间长些,因为还要去掉变形层。粗抛后磨面光滑,但黯淡无光,在显微镜下观察有均匀细致的磨痕,有待精抛消除。
精抛时转盘速度可适当提高,抛光时间以抛掉粗抛的损伤层为宜。液体抛光腊精抛后磨面明亮如镜,在显微镜明视场条件下看不到划痕,但在相衬照明条件下则仍可见到磨痕。抛光机抛光质量的好坏严重影响试样的组织结构,已逐步起有关专家的重视。近年来,国内外在抛光机的性能上作了大量的研究工作,研究出不少新机型、新一代的抛光设备,正由原来的手动操作发展成为各种各样的半自动及全自动抛光机。
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