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抛光剂制作技术配方


目前常用的抛光处理材料有固体及液体两个大类,固体的常称之为抛光膏,而液体类的则称之为抛光剂。抛光剂是加工各种器皿、零部件及设备的一种研磨抛光材料。由于抛光膏兼具研磨及抛光性能,使胶木、塑料、木器、金属及合金等材料经抛光膏处理后显得更为光彩耀目及美观,由于其应用极为广泛,所以每年数万吨计的销量在国民经济中发挥着积极的作用. 抛光膏是由唐料、油脂二大部份组成,由于所垌磨料的不同,油脂种类的差异,使抛光膏形成了多种不同的产品,使用在各种不同的场合。抛光膏的生产工艺较为简单,基本上是 由配料、混合、搅拌及成型等工序组成,适应乡镇企业、农民小规模投资创业。

1.[ 02157322 ]- 一种石材镜面效果抛光剂的制作方法 


石材加工材料,涉及一种石材镜面效果抛光膏的制作方法。由于房地产业和室内外装饰业的蓬勃发展,各种建筑的外墙和室内的各种石材台面,大量的采用了花岗岩、大理石等。这些装饰性高级石材都需要在加工表面后有很好的光泽和镜面效果。目前的石材加工中,大都采用陶瓷抛光砂轮、树脂抛光砂轮、金刚石研磨膏等。日本大和生产的抛光用天然油性金刚石膏就是把石材从粗磨——一般光亮——精密亮度——镜面效果抛光的一种研磨膏,这种研磨膏的价格比较高,就决定了单位尺寸抛光研磨石材的成本。本发明是制造一种低成本的又可达到镜片效果抛光的研磨膏,可使用任何一种电动、气动工具自粘式羊毛毡片进行石材抛光,也可用于其它领域的材料抛光,如:金属类模具、各种手饰、工艺品、机械零配件等等。


2.[ 01143343 ]- 化学机械法抛光二氧化硅薄膜用抛光膏 
一种用于化学机械法抛光的抛光膏,它包含0重量%的胶体二氧化硅磨料,以及0重量%通式为R↓[4]N↑[+]X↑[-]的季铵盐,其中,R可以相同或不同,并且选自于由烷基、链烯基、烷芳基、芳烷基以及酯基等基团组成的基团组,X为羟基或卤,它以高抛光速率而突出。


3.[ 01143362 ]- 用于SiO*隔离层化学-机械抛光的酸性抛光膏 
一种用于化学-机械抛光的酸性抛光膏,其含有0.1-5重量%的胶态二氧化硅研磨剂,和0.5-10重量%的氟化盐,与含煅制二氧化硅的传统抛光膏相比,其以更高的抛光选择性而著称,抛光选择性是关于二氧化硅除去率与氮化硅除去率的比。


4.[ 01142566 ]- 用于金属和电介质结构化学机械抛光的抛光膏 
一种用于金属和金属/电介质结构的化学机械抛光的抛光膏,其含有约0体积%的硅溶胶,该硅溶胶中含有0重量%的SiO↓[2]颗粒,并用H↑[+]和K↑[+]离子稳定,SiO↓[2]颗粒平均粒径小于300nm;约为6~10体积%的过氧化氢;以及数量恰好将22℃时的抛光膏pH值调节到5-11.5的碱,该抛光膏对Ta的去除率大于300*min,选择性也得到改进。本发明还涉及这种抛光膏的制备方法和应用。


5.[ 01111755 ]- 混合抛光膏剂 
抛光基底表面的混合膏剂混合物。所述混合膏剂包括:0%(重量)的主要抛光颗粒、1-50%(重量)分散胶体颗粒、1-40%(重量)的氧化剂和平衡水。所述主要抛光颗粒为至少一种选自氧化物、氮化物、碳化物和硼化物的金属化合物。所述主要抛光颗粒的粒径为约0.1-2μm平均直径。所述分散胶体颗粒为至少一种选自氧化铝和二氧化硅的氧化物。所述分散胶体颗粒的粒径为约2-500nm平均直径。


6.[ 98112740 ]- 一种防潮白抛光膏
一种防潮型白抛光膏,其所用的磨光剂由石英粉和碳酸钙粉组成,其所用的油脂由牛羊油、氢化油、硬脂酸组成,其中石英粉的掺入量在0%;碳酸钙粉的掺入量是0%;牛羊油的掺入量0%;氢化油的掺入量是0%;硬脂酸的掺入量是0%;采用石英粉和碳酸钙粉替代传统白抛光膏中的石灰粉,不仅能保证抛光膏的理化性能和使用性能,也克服其易潮解风化缺陷;可以取消密封防潮包装;有利于降低生产成本。


7.[ 92104320 ]- 无油水基研磨抛光膏 
涉及用于对金属及其合金表面进行加工,特别是对金属内表面进行粗研、半精研、精研、互研、抛光加工的无油水基研磨抛光膏,克服了传统油基研磨膏及国外研制的水基研磨膏使用过程中由于研磨温度升高而出现的熔焊、卡死,产生的高聚物沥青质不易清洗、降解造成环境污染的问题。本水基研磨抛光膏具有超强保水、耐压、耐热、缓慢释放水分的性能,也具有在有水及由于研磨温升使水分完全蒸发的状况下,仍能保持其对金属及其合金的加工性能。


8.[ 89106422 ]- 高效有色金属抛光膏及制备方法 
一种用于有色金属的高效抛光膏,是用油酸、氧化铬、和石蜡配制成的软膏,按重量比,油酸为0%,氧化铬为0%,石蜡为0%,将石蜡放入油酸中,在搪瓷器皿里,加热待石蜡熔化后,加入氧化铬,搅拌均匀,断热源,过滤后继续搅拌成软膏状。本抛光膏配方简单,制造容易,但具有高效率、高光洁度的功能,适用于多种抛光方式。

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