抛光液具有金属杂质沾污极少、易清洗、抛光速率高、损伤层小、平整度高等特点。在抛光中根据需要可以优化不同配比，抛光液均能达到最佳使用效果。抛光液该产品具有浓缩度高、磨料粒径小、表面张力小、对有机物、金属离子及颗粒容易清洗、抛光速率高（0.8～1.5μm/min）、高温不出现非均化蚀坑等优点。抛光液主要用于多重扩散硅片的高质量抛光，也可用于原始锗、石英、二氧化硅、蓝宝石等材料的抛光工艺，还可用于扩散片的抛光。
   抛光液的运输及保存：1、运输与存放温度为5℃～50℃，存放时应避光，以避免浆料变质。2、保质期一年，建议半年内使用。3、避免金属、颗粒污染，避免强电解质的接触。
    抛光液的使用方法：抛光前：所有陶瓷、石材饰面和缝隙在施工前均应无尘、污染物、脱屑、蜡状物，建议配合我司的高效除污剂使用效果更加。
抛光中：本剂由A、B二种组份配合一起使用，A适合做晶面增硬增亮处理，B做底面的填充处理，有防水、防油、防污效果首先，把B剂用喷壶或直接倒入要抛光的物表面进行抛光，建议使用纤维垫抛光，喷洒1-2次抛光剂，直到抛出晶莹的效果为止。然后，喷洒1-2次A抛光剂，直到抛出理想的要求，光泽度可达90度以上或更高。